Opis tarče za razprševanje 4N HfO2
Ciljni material hafnijevega dioksida je funkcionalen material, sestavljen iz visoko{0}}čistega hafnijevega dioksida (HfO₂), ki se uporablja predvsem v postopkih nanašanja tankih{1}}slojev, kot sta fizično naparjevanje (PVD) in magnetronsko razprševanje. Njegove glavne značilnosti vključujejo visoko tališče, odlično kemično stabilnost, odlične električne izolacijske lastnosti in optično preglednost v določenih območjih valovnih dolžin. Visoka čistost je temeljnega pomena za zagotavljanje enotnosti nanesenih filmov, njihove optične zmogljivosti in zanesljivosti naprave, saj lahko nečistoče povzročijo napake na filmu. Stabilnost kakovosti ciljnega materiala je neposredno povezana s ponovljivostjo postopka nanašanja in izkoristkom končnega izdelka. Z nenehnim napredkom polprevodnikov, optoelektronike in naprednih proizvodnih tehnologij povpraševanje po visoko{6}}zmogljivih tarčah hafnijevega dioksida vztrajno narašča, kar predstavlja široke tržne možnosti.
Uporaba tarče za razprševanje 4N HfO2
Proizvodnja polprevodnikov: kot material z visoko-dielektrično-konstanto (visoko-k) se uporablja pri izdelavi naprednih izolatorjev tranzistorskih vrat, kar prispeva k izboljšani zmogljivosti naprave in miniaturizaciji.
Optoelektronske naprave: zaradi svojih izjemnih optičnih lastnosti,-kot sta visok lomni količnik in nizka izguba absorpcije-se pogosto uporablja v optičnih prevlekah za proizvodnjo anti-odbojnih plasti, optičnih filtrov, laserskih komponent in visoko-zmogljivih optičnih filmov.
Posebna keramika in premazi: s svojo visoko trdoto in odpornostjo proti obrabi se uporablja pri izdelavi naprednih keramičnih materialov ter zaščitnih premazov, ki so odporni na visoke temperature in korozijo.
Frontier Research: Na nastajajočih področjih, kot je kvantno računalništvo, hafnijev dioksid kaže potencial za uporabo kot dielektrični material za kubite.
Specifikacije tarče za razprševanje 4N HfO2
Čistost: 99,9 %, 99,99 %;
Proizvodna metoda: vroče stiskanje
Razpoložljive dimenzije:
Okrogla: premer manjši ali enak 14 palcem, debelina večja ali enaka 3 mm;
Pravokoten: dolžina manjša ali enaka 14 palcem, širina manjša ali enaka 10 palcem, debelina večja ali enaka 3 mm.
Vrsta vezi: indij
Kontrola kakovosti in testiranje tarče za razprševanje 4N HfO2
Pogosta vprašanja za tarčo za razprševanje 4N HfO2
Ali ste tovarna oz aproizvajalec?
O: Da, smo tovarna 4N HfO2 Sputtering Target, vendar na splošno uporabljamo naše trgovsko podjetje za poslovanje v tujini. Bolj priročno bo prejeti nakazilo in urediti pošiljko.
Kakšen je način dostave?
O: Na splošno pošljemo tarčo za razprševanje 4N HfO2 z UPS, DHL ali FedEx. Prav tako lahko pošiljamo po morju do pristanišča ali po zraku do najbližjega letališča.
Zakaj je vaša tarča za razprševanje 4N HfO2 tako stroškovno-učinkovita?
O: Izločimo posrednike v -{1}}končnem proizvodnem procesu in pridobivamo surovine neposredno iz vira.
Ali opravljate pregled kakovosti na kraju samemizdelkov?
O: Zagotovo 100 % popoln pregled. Vse nekvalificirane tarče za razprševanje 4N HfO2 se zavržejo.
Kako zagotovite svoj dobavni rok?
O: Od priprave materiala do strojne obdelave in končno do popolnega pregleda. Vsaka faza proizvodnje je strogo nadzorovana in nadzorovana, da vam zagotovimo natančen čas dostave.
Kakšna je MOQ tarče za razprševanje 4N HfO2?
O: Odvisno od količine tarče za razprševanje 4N HfO2; na splošno ni omejitve MOQ.
Kako plačati zaizdelke?
A: Bančno nakazilo (T/T) bo sprejemljivo.
Kakšen je dobavni rok?
O: Približno 7-20 dni, kar je odvisno od količine in proizvodnje tarče za razprševanje 4N HfO2.
Za kakšen paket gre?
O: Na splošno uporabljamo kartonsko škatlo ali škatlo iz vezanega lesa z zaščitnim materialom v notranjosti, da zagotovimo varnost tarče za razprševanje 4N HfO2.
Kakšen je dobavni rok?
O: Od oddanega naročila do prejema tovora bo trajalo približno 10-25 dni.
Priljubljena oznake: 4n hfo2 sputtering target, Kitajska 4n hfo2 sputtering target dobavitelji, tovarna
