Keramične tarče za razprševanje

• 4N ZrO2 razpršilna tarča z bakreno zadnjo ploščo

  Naše tarče za razprševanje s cirkonijevim dioksidom s podložnimi ploščami so izdelane iz -materiala cirkonijevega dioksida visoke čistosti, varno pritrjenega na kovinsko podložno ploščo; ta oblika...

  Več
• Tarča za razprševanje iz ZrC z zadnjo ploščo iz bakra

  Naše tarče za razprševanje iz cirkonijevega karbida (ZrC) z bakrenimi podložnimi ploščami imajo robustno vez med-materialom tarče ZrC visoke čistosti in bakreno podlago. Ta zasnova zagotavlja...

  Več
• Ta 5at% dopirana tarča za razprševanje ZrC

  Natančno dopiranje cirkonijevega karbida s 5 atomskimi odstotki tantala znatno poveča visoko-temperaturno odpornost ciljnega materiala, odpornost na toplotne udarce in odpornost proti koroziji....

  Več
• 4N IGZO razpršilna tarča

  Naše tarče za razprševanje 4N IGZO zagotavljajo stabilnejšo in učinkovitejšo zmogljivost razprševanja. Specializirani za-za zaslone in polprevodniške aplikacije višjega cenovnega razreda,...

  Več
• Tarča 4N HfO2 z bakreno zadnjo ploščo

  Tarča za razprševanje 4N HfO₂ z bakreno podlago uporablja material hafnijevega oksida čistosti 99,99 %. Integriran z bakreno podlago ponuja odlično toplotno prevodnost in je idealen za postopke...

  Več
• 4N HfO2, dopiran z 2 % Ti Target

  Tarča za razprševanje HfO₂, dopirana z 2 % Ti-, je izdelana z uporabo substrata hafnijevega oksida visoke-čistosti, natančno dopiranega z 2 % titana. Zanj je značilna enakomernost sestave in...

  Več
• 4N HfO2 razpršilna tarča

  4N High-Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99,99 % čistost)—primeren za uporabo v optičnih prevlekah, polprevodnikih in precizni elektroniki. Odlikuje ga visoka gostota, enotna sestava in...

  Več
• Tarča za razprševanje B4C

  Z uporabo surovin iz -borovega karbida visoke čistosti se ta izdelek odlikuje z izjemno trdoto in robustno toplotno stabilnostjo, zaradi česar je idealen za uporabo v proizvodnji polprevodnikov,...

  Več
• Prilagojeni HfC delci

  Opis prilagojenih delcev HfC Delci HfC se običajno sintetizirajo z reakcijo hafnijevega dioksida (HfO₂) z ogljikom pri visokih temperaturah (1900–2300 stopinj) v inertni ali redukcijski atmosferi....

  Več
• Tarča za razprševanje s kositrovim oksidom (SnO2).

  Tarča kositrovega oksida (SnO2) je pomemben anorganski nekovinski material. Zaradi svojih edinstvenih fizikalnih in kemijskih lastnosti ima pomembno vlogo na številnih področjih visoke...

  Več
• Tarča za razprševanje tantalovega oksida (Ta2O5).

  Tarča za naprševanje s tantalovim oksidom se lahko uporablja v polprevodnikih, zaslonih s kemičnim naparjevanjem (CVD), fizikalnim naparjevanjem (PVD) in optičnih aplikacijah. Smo dobavitelj...

  Več
• Tarča za razprševanje iz titanovega oksida (TiO2).

  Titanov dioksid (TiO2) je najbolj razširjen beli pigment, na primer v barvah. Ima visoko svetlost in zelo visok lomni količnik (2,609 za rutil).

  Več