Volfram-titanova zlitina je material, legiran iz prehodnih kovin volframa in titana. Ima še višjo gostoto in čistost, boljšo odpornost proti koroziji in manjšo prostorninsko ekspanzijo, kar učinkovito zmanjša nastajanje delcev med proizvodnjo, zaradi česar je izdelava kakovostnih tankih filmov uspešna.
Tarče iz volfram-titanove zlitine se proizvajajo s tehnologijo praškaste metalurgije in se pogosto uporabljajo v polprevodnikih in tanko{1}}slojnih sončnih celicah. V polprevodniških aplikacijah 10 mas. % WTi tanke plasti služijo kot difuzijske pregrade in adhezijske plasti za ločevanje metalizacijskih plasti od polprevodnikov, na primer za ločevanje aluminija od silicija ali bakra od silicija. To bistveno izboljša funkcionalnost polprevodnikov v mikročipih. V tankoslojnih-slojnih sončnih celicah filmi z 10 mas.% WTi služijo tudi kot pregradna plast, ki preprečuje, da bi atomi železa iz jeklene podlage difuzirali v molibdenov zadnji kontakt in polprevodnike CIGS. Tarče iz volframove-titanove zlitine se uporabljajo tudi v LED in premazih za orodja.
Glavni razlog za izbiro tarč iz volfram-titanove zlitine kot difuzijskih pregrad in veznih plasti v novih polprevodniških čipih je odličen površinski oprijem zlitine in odvajanje toplote, kar ima za posledico izdelke z višjo splošno zmogljivostjo.
Metoda priprave za tarčo iz volframa-titana
1. Vzemite določeno količino volframovega prahu in titanovega prahu in ju enakomerno zmešajte v inertni atmosferi.
2. Uporabite mehansko stiskalnico ali hladno izostatično stiskalnico, da stisnete nastalo mešanico v gredico.
3. Dobljeno gredico postavite v vakuumsko peč za sintranje za zgostitev in sintranje.
4. Po ohlajanju volfram-titanovega materiala, sintranega v 3. koraku, ga stopite v vakuumski obločni peči brez-potrošnega materiala, da dobite izdelek.
Prednosti tarče iz volframa-titana
1. Preprost proizvodni proces in enostavno upravljanje.
2. Z uporabo mešanice volfram-titanovega prahu, ki ji sledi stiskanje, sintranje in obločno taljenje, ta postopek učinkovito obravnava nizko učinkovitost, enakomernost materiala in izzive vsebnosti nečistoč pri tradicionalni pripravi volfram-titanove zlitine.
Our factory can produce WTi 90/10wt% and WTi 85/15wt% targets, and can also customize targets with special compositions. The actual target density is >99 % in povprečna velikost zrn je<100μm. With purity up to 4N5 and special annealing treatment, uniform grain size and low gas content, end users can obtain constant etching rates as well as high-purity and uniform thin film coatings during the PVD process.
